制造光刻機(jī)有什么技術(shù)難題
光刻機(jī)是生產(chǎn)集成電路的主要設(shè)備,其技術(shù)水平?jīng)Q定了集成電路的集成度,也是街道 "筑頸 "技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)瓶頸。
芯片制造過(guò)程可分為三個(gè)階段:設(shè)計(jì)、制造和封測(cè),而在生產(chǎn)中遇到的###大困難。制造芯片需要數(shù)百道工序,其中需要用到幾十種規(guī)則。很難想象這項(xiàng)工作有多困難。###重要的是,這是一個(gè)長(zhǎng)期積累的技術(shù)和經(jīng)驗(yàn),但遺憾的是,我們?cè)谶@個(gè)領(lǐng)域的經(jīng)驗(yàn)很少。
導(dǎo)電集成電路器件是半導(dǎo)體產(chǎn)品的關(guān)鍵金屬部件,它是由沖壓和蝕刻制成的。其中,沖壓是目前的主要工藝。集成電路布線模子也是######的精密級(jí),代表模子,它不斷小型化,具有很高的開(kāi)發(fā)精度。
在制造芯片的過(guò)程中,光刻機(jī)等必要設(shè)備是###重要的設(shè)備。但是,由于當(dāng)時(shí)我們的實(shí)力有限,無(wú)法研究和購(gòu)買這些設(shè)備,這就導(dǎo)致了一個(gè)根本性的問(wèn)題,即關(guān)鍵設(shè)備無(wú)法解決,我們的芯片制造將處于停滯狀態(tài)。
光刻機(jī)的原理有點(diǎn)像照光刻機(jī)的照片,主要是通過(guò)曝光在硅片上做出一些精美的圖形。
別看它的原理簡(jiǎn)單,但要生產(chǎn)和制造出具有高質(zhì)量的芯片、專有技術(shù)和必要部件的光刻機(jī)是非常困難的。另外,目前擁有芯片技術(shù)的發(fā)達(dá)###大多是西方###,而西方###與中國(guó)的技術(shù)交流不夠。自然,這種先進(jìn)的技術(shù)并不希望中國(guó)知道或出售。目前,國(guó)外攝像機(jī)的領(lǐng)先技術(shù)是荷蘭的AMSL。
IC線框模具不僅要有高的模具設(shè)計(jì)技術(shù),還要有高精度的加工設(shè)備才能勝任。模子尺寸公差為1μ m,粗糙面要求在Ra 0.2μ m以下,在慢速切削機(jī)上進(jìn)行基本測(cè)試和研磨。
光刻機(jī)生產(chǎn)的###大特點(diǎn)是研發(fā)周期長(zhǎng),貢獻(xiàn)大,回報(bào)短。更重要的是,芯片這種東西,與其讓你投入太多,不如讓你回報(bào)。建國(guó)后,###更注重加強(qiáng)###的綜合實(shí)力,而不是在這些極其困難的領(lǐng)域浪費(fèi)時(shí)間。當(dāng)我們所有的成就都相對(duì)成熟的時(shí)候,美國(guó)的禁令來(lái)了,這讓我們注意到了我們現(xiàn)在的這些領(lǐng)域。
光刻機(jī)的芯片制造技術(shù)是納米級(jí)的。荷蘭###現(xiàn)代化的光刻機(jī)EUV重達(dá)180噸,內(nèi)部零件超過(guò)10萬(wàn)個(gè),要運(yùn)40個(gè)集裝箱。5納米的EUV光刻機(jī)的工作原理只相當(dāng)于1萬(wàn)個(gè)粗略的燈,而且芯片上 "刻 "有電路。###后,要使一個(gè)指甲蓋大小的晶體包含數(shù)億個(gè)晶體管是非常復(fù)雜的。
前路仍需雙腳走,中國(guó)在高端光刻機(jī)方面確實(shí)與國(guó)外的先進(jìn)水平有太多的差距,我們確實(shí)要加大科研力度,力求早點(diǎn)突破光刻機(jī)難題!
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